三星电子在内存技术领域取得了新的突破。据韩媒zdnet korea报道,该公司已成功研发出1c nm(第六代10nm级)dram内存的良品晶粒,这一成果在公司内部获得了高度评价。
然而,1c nm dram的量产仍面临挑战,首批产品的良率尚不足一成。为推进量产进程,三星电子计划在今年底前完成首条1c nm dram内存量产线的建设。
▲ 三星电子hbm内存示意图
据悉,三星下一代hbm内存hbm4预计将基于1c nm dram制程,以期在市场竞争中追赶并超越sk海力士与美光。
按照行业惯例,新dram制程通常先应用于ddr内存,再逐步扩展至lpddr,最后在hbm上应用。但考虑到1c nm dram的量产时间和hbm4的预计量产时间,三星可能会打破这一常规顺序。
▲ 生产线示意图
▲ dram内存芯片
▲ hbm内存模块